Center Smart Materials and Adaptive Systems CeSMANanostrukturen ermöglichen ein breites Spektrum von Anwendungen. Ein geeigneter Weg, sie in großem Maßstab herzustellen, ist die Nanoimprint-Technologie, bei der von einer bestimmten Masterstruktur ein Polymer-Replikat hergestellt wird.
Das Fraunhofer ISC bietet Expertise in der Designherstellung von Imprintstempeln (Mastering) und in der Anwendung der Nanoimprint-Lithographie unter Verwendung kommerzieller Masterstrukturen in Kombination mit hybridpolymerbasierten Imprintresists. Mit dieser Technologie können großflächige 2,5-dimensionale Nanostrukturen mit Strukturgrößen bis zu 75 nm kostengünstig und zuverlässig erzeugt werden.
Bestimmung der Strukturparameter mittels AFM. Links: 3D-Bild des Wabenmusters.
Rechts: Querschnitt, der sub-100 nm Linienbreite und 180 nm Höhe zeigt.
REM-Aufnahmen eines mit ORMOCER® hergestellten Wabenmusters.
Die Linienbreite beträgt 75 nm.